NM سيليكا مباعد NI 090

يعد التحكم الدقيق في فجوة خلية LCD التي تحتوي على الكريستال السائل أمرًا بالغ الأهمية لتحقيق أفضل أداء للعرض. يجب أن تفي الجسيمات الكروية المستخدمة للتحكم في سمك طبقة الكريستال السائل بالمتطلبات الصارمة مثل حجم الجسيمات الدقيق وتوزيع حجم الجسيمات المحكم والصلابة المناسبة والمقاومة الممتازة للحرارة والبرودة والمواد الكيميائية.

توفر Nanomicro Tech مجموعة واسعة من فواصل البلاستيك والسيليكا. يستخدم مباعد السيليكا على نطاق واسع للتحكم في فجوة الإطار ، وكذلك التحكم في فجوة الخلية للتطبيقات الخاصة.
● كرة موحدة وسطح أملس
● التحكم الدقيق في حجم الجسيمات
● التوزيع الضيق لحجم الجسيمات
● مقاومة ممتازة للحرارة والبرودة والمواد الكيميائية
● تشتت جيد وعدم تجميع
● قوة ميكانيكية ممتازة ومقاومة فائقة للتكسير
● خالية من التلوث


الخصائص النموذجية لفاصل NM SILICA :


التحكم الدقيق في حجم الجسيمات من NM SILICA SPACER :


السيطرة على النجاسة من NM SILICA SPACER :
تعتبر كميات الأيونات الموجودة في فاصل السيليكا حرجة ويتم التحكم فيها بإحكام في عملية التصنيع بأكملها. تم الكشف عن كمية Fe ، Ca ، K ، Na بواسطة مطياف ICP و Cl بواسطة كروماتوجرافيا الأيونات.



يلبي NM SILICA SPACER متطلبات RoHS :

لا تحتوي NM SILICA SPACER على أي مواد كيميائية محظورة بواسطة RoHS. يتم فحص NM SILICA SPACER سنويًا بواسطة وكيل معتمد دوليًا لتلبية جميع متطلبات RoHS. شهادة RoHS من NM SILICA SPACER حديثة وصالحة ، ويمكن إرسال نسخة منها عند الطلب.



نوع وحجم فاصل السيليكا NM:
توفر شركة Nanomicro Tech سلسلتين (Si و SiS) من فواصل SILICA عالية الجودة لتلبية متطلبات التطبيقات المختلفة الصعبة للعملاء المختلفين. يتم استخدام فاصل السيليكا من سلسلة NM Si على نطاق واسع كمباعد جانبي ، بينما يتم تطبيق فاصل سلسلة NM SiS في الخلية للتطبيقات الخاصة.
يوفر NM SILICA SPACER أوسع اختيار للحجم من 2 ميكرومتر إلى 20 ميكرومتر. تضمن مرافق التصنيع الحديثة ، والأدوات التحليلية المتقدمة ونظام مراقبة الجودة الموثوق به جودة منتجات NM SILICA SPACER وقابليتها للتكرار.



القواعد العامة: NM Si XXX ؛ NM SiS XXX ؛ NM - Nanomicro XXX - القطر ، على سبيل المثال: 065 - 6.5 ميكرومتر ، 100 - 10.0 ميكرومتر

ل المنتجات القياسية: 2.0-5.0 ميكرومتر بزيادات 0.25 ميكرومتر ؛ 5.0-10.7 ميكرومتر بزيادات 0.10 ميكرومتر ؛ فوق 11.0 ميكرومتر بزيادة 1.0 ميكرومتر.
l فاصل ذو حجم خاص ، أقل من 2.0 ميكرومتر أو أعلى 20.0 ميكرومتر ، متاح عند الطلب.
ل متوسط ​​قطر المباعد ثابت من دفعة إلى أخرى وفقًا لـ Beckman Coulter Counter Multisizer 3.
طرق الرش الموصى بها من NM SILICA SPACER:
عند استخدام NM Si SILICA SPAER كمباعد جانبي ، قم بخلطه مباشرة مع المكونات الأخرى. في حالة تطبيقات فجوة الخلايا ، يمكن رش NM SiS SILICA SPACER إما بالرش الجاف أو الرطب.
الرذاذ الجاف: للحصول على أفضل النتائج ، يوصى بتنظيف فاصل NM SILICA المجفف بالمكنسة الكهربائية عند 80 درجة مئوية لمدة 8 ساعات قبل الرش الجاف ، مما يضمن تفريق SPACER بسلاسة وحرية.
الرذاذ الرطب: قم بتفريق NM SILICA SPACER في مذيب عضوي مثل الأيزوبروبانول أو الإيثانول ، بالموجات فوق الصوتية قبل إضافة كمية مناسبة من الماء. يعمل هذا عادة بشكل أفضل من تشتيت المبايض مباشرة في محلول مائي يحتوي على مذيب عضوي.
كثافة الرش الموصى بها:



يجب تعديل كثافة الرش والضغط المطبق وفقًا لحجم SPACER وما إلى ذلك. يتم تدريب فنيي الخدمة من شركة Nanomicro Technology بشكل احترافي لمساعدة عملائنا على تحقيق أفضل النتائج.

تعبئة وتخزين NM SILICA SPACER

يتم تعبئة NM SILICA SPACER في قوارير زجاجية سعة 10 جم أو 20 جم مع أغطية بلاستيكية وإدراج للحفاظ على الرطوبة بعيدًا عن المحتويات. يتضمن الملصق الموجود على القارورة اسم المنتج ورقم الدفعة وتاريخ انتهاء الصلاحية والوزن و RoHS وختم اجتياز الفحص وما إلى ذلك.
يجب تخزين قوارير NM SILICA SPACER في خزانات لإزالة الرطوبة مع التحكم بدرجة الحرارة والرطوبة. يجب ضبط الخزانة على درجة حرارة الغرفة والحفاظ عليها أقل من 25٪ رطوبة. يوصى باستخدام المنتج بأكمله في قنينة بمجرد فتحه.